Вольфрамовый лист 9х220х2000 мм В-МП в Коломне

Устойчивость вольфрамового листа к воздействию серной кислоты с концентрацией 98% при нагреве низкая. Горячая концентрированная серная кислота является сильным окислителем и вызывает активную коррозию вольфрама, образуя вольфрамовую кислоту или сульфаты.

Лист ВА будет подвергаться коррозии в среде фтористоводородной кислоты при комнатной температуре. Вольфрам реагирует с фтористоводородной кислотой, особенно в присутствии окислителей, что приводит к образованию растворимых фторидов и деградации материала.

Высокая чистота и полировка поверхности листа снижают его коэффициент термического излучения в вакууме. Гладкая, без окислов поверхность эффективно отражает тепло, уменьшая теплопотери и улучшая энергоэффективность в высокотемпературных вакуумных установках.

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.

Долгосрочной эксплуатации вольфрамового листа без деградации способствуют условия глубокого вакуума, инертные газовые среды (аргон, гелий) или водородная атмосфера. Отсутствие кислорода, галогенов и других агрессивных химических реагентов критично для сохранения свойств при высоких температурах.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.

Лист ВД обладает высокой устойчивостью к расплавленному индию при 250°С. Низкая взаимная растворимость вольфрама и индия обеспечивает минимальное взаимодействие и сохранение целостности вольфрамового листа в данной металлической среде.